Высокая подвижность электронов в арсениде индия и прямозонная структура позволяют использовать его для изготовления быстродействующих транзисторов и интегральных схем, фотоприемных детекторов ИК диапазона, инжекционных лазеров с длиной волны более 3,5 мкм.
На основе квантовых точек InGaAs-GaAs
изготавливают светодиоды и полупроводниковые лазеры поверхностного излучения с
вертикальным объемным резонатором (VCSEL). Последние характеризуется излучением
света в направлении перпендикулярно поверхности электродов. Эти лазеры проще в
изготовлении. Доступные в настоящее время лазеры VCSEL изготовляются из
арсенида галлия (GaAs) и излучают свет в волновом диапазоне примерно от 750 до
1000 нм. Длины волн этого диапазона недостаточно велики для того, чтобы можно
было передавать сигналы по волоконно-оптическим кабелям на большие расстояния,
поэтому VCSEL используют не столько для дальней связи, сколько в LAN,
развернутых в пределах одного здания, в которых интенсивный обмен информацией
осуществляется на небольших расстояниях.

Заключение
Молекулярно-лучевая эпитаксия может обеспечивать исключительно точное управление профилями химического состава и легирования. Монокристаллические многослойные структуры толщиной лишь в несколько атомных слоёв заложили основу экспериментальной квантовой физики. Использование возможностей получения резких гетерограниц и профилей легирования позволяет создавать приборы с желаемыми и новыми кинетическими и оптическими свойствами, такими как сверхвысокая подвижность носителей заряда, сосуществование электронов и дырок, характерное для полуметаллов и др. Часто при МЛЭ используются маски, которые наряду с «рисованием» молекулярными пучками позволяет создавать на пластинке трёхмерные монолитные структуры. МЛЭ может быть использована не только для выращивания полупроводниковых наноструктур, но также и для металлических и диэлектрических. Также видно, что в рассмотренных системах проявляются самые разнообразные свойства границ. Для ряда систем показана возможность улучшения условий роста и качества плёнок.
Метод МЛЭ открыл новую степень свободы в
изучении наномира и позволил создавать самые разнообразные наноструктуры
высокого качества.
Список использованных источников
[1] Л. Ченг, К. Плог. Молекулярно-лучевая эпитаксия и гетероструктуры. - Москва, «Мир», пер. с англ.,1989 - 584 с.
[2]К.В. Малышев,Б.В. Стрелков, С.А. Мешков. Молекулярно-лучевая эпитаксия нанослоёв, нанонитей и наночастиц. - М.: Изд-во МГТУ им. Н.Э. Баумана, 2007. - 49 с.
[3] В.М. Березин, Н.С. Забейворота. Методы формирования тонкоплёночных структур. - Челябинск: Из-во ЮУрГУ, 2010. - 96 с.
[4] Ю.Г. Сидоров, С.А. Дворецкий, В.С. Варавин, Н.Н. Михайлов, М.В. Якушев, И.В. Сабинина. Молекулярно-лучевая эпитаксия твёрдых растворов кадмий-ртуть-теллур на альтернативных подложках. - Новосибирск: Институт физики полупроводников Сибирского отделения Российской академии наук, 2001. - 10 с.
[5] Я.Г. Копьёв, С.В. Новиков, Н.С. Соколов, Н.Л. Яковлев. Молекулярно-лучевая эпитаксия и фотолюминесцентное определение упругих деформаций слоёв CaF2 и SrF2 на GaAs (111). -Ленинград: Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Академии наук СССР, 1989 г. - 6 с.
[6]
Н.О. Кривулин. Ультратонкие слои кремния на сапфире. - Нижний Новгород:
Нижегородский госуниверситет, 2011 г. - 40 с.
Приложение А
(обязательное)
Таблица 1
Некоторые физические свойства основных элементов, используемых при МЛЭ
|
Парамет-ры |
Ge |
Si |
In |
Ga |
As |
Al |
||||||
|
Атомный номер |
32 |
14 |
49 |
31 |
33 |
13 |
||||||
|
Атомная масса |
72,64 |
28,09 |
114,82 |
69,72 |
74,92 |
26,98 |
||||||
|
Параметры решётки, Å |
5,647 |
5,430 |
a=3,252 с=4,946 |
a=4,519 b=7,658 c=4,526 |
a=4,123 α=54,17° |
4,05 |
||||||
|
Кристаллическая структура |
алмазная |
кубичес-кая, алмазная |
тетраго- нальная |
ортором- бическая |
триго- нальная |
кубичес-каягранецен. |
||||||
|
Кол-во атомов в 1 см3 |
4,52*1022 |
4,99*1022 |
3,83*1022 |
5,10*1022 |
4,60*1022 |
6,02*1022 |
||||||
|
Плотность при н.у., г/см3 |
5,32 (298 К) |
2,33 (298 К) |
7,31 |
5,91 |
5,73 (серый) |
2,70 |
||||||
|
Температура плавления, оС |
940 |
1415 |
156 |
30 |
- |
660 |
2700 |
2350 |
2080 |
2204 |
613 (сублим.) |
2519 |
|
Удельная теплоём-кость, Дж/(кг*К) |
321 |
710 |
233 |
371 |
328 |
904 |
||||||
|
Коэффициент теплового расширения, К-1 |
6*10-6 |
2,6*10-6 |
3,21*10-5 |
1,2*10-4 |
4,7*10-6 |
2,3*10-5 |
||||||
|
Коэффици-ент теплопро-водности, Вт/(м*К) |
60 |
150 |
82 |
29 |
50 |
235 |
Приложение Б
(обязательное)
Спектр пропускания CaF2
Элементарная ячейка кристаллической решётки
CaF2и SrF2
Спектр свечения кристаллов SrF2
Элементарная ячейка кристаллической решётки GaAs
Гетеропереход GaAs/AlGaAs(ДЭГ - двумерный
электронный газ)
нанонить
Эмиссионный спектрGaNлазерного диода