Материал: 684_Filimonova_N.I._Metody_ehlektronnoj_spektroskopii_
7.Список цитированной литературы
1.Уманский Я.С., Скаков Ю.А., Иванов А.Н. и др. Кристаллография, рентгенография и электронная микроскопия - г. Москва «Металлургия» 1982 - 631 с.
2.Вудраф Д., Делчар Т.Современные методы исследования поверхности - г. Москва «Мир» 1989 - 568 с.
3.Фелдман Л., Майер Д. Основы анализа поверхности и тонких пленок - г. Москва «Мир» 1989 - 342 с.
4.Оура К. Лившиц В.Г., Саранин А.А. и др Введение в физику поверхности
–г. Москва «Наука» 2006 – 490 с.
5.http://sibsauktf.ru/courses/surface/APPARAT/apparat.htm
6.Фридрихов С.А., Мовнин С.М. Физические основы электронной техники: Учебник для вузов.- М.: Высшая школа, 1982.- 608 с
7.Еловиков С.С. Электронная спектроскопия поверхности и тонких пленок:Учеб. пособие.- М.: Изд-во МГУ, 1992.- 94 с.
8.Анализ поверхности методами оже- и рентгеновской фотоэлектронной спектроскопии - Под ред. Д. Бриггса, М.П. Сиха.- М.: Мир, 1987.- 600 с.
9.Определение концентрации Ge в эпитаксиальных плёнках SixGe1-x/Si методом Оже-спектроскопии. Описание лабораторной работы/ Сост. Максимов Г.А., Николичев Д.Е., Канышина М.В. – Н.Новгород: из-во Нижегородского государственного университета, 2002 – 40 с.
10.Surface and Thin Film Analys: Principles, Instrumentation, Applications – Edited by H. Bubert and H. Jenett- WILEY-VCH Verlag GmbH, 2002 – 352 p.
11.Черепин В.Т., Васильев М.А. Методы и приборы для анализа поверхности: Справочник.- Киев: Наукова думка, 1982.- 299 с.
12.Мурашов С.В. Использование метода Оже-спектроскопии для анализа степени окисления поверхности. Ckp.lab2.phys.spbu.ru (или www.ngpedia.ru)
13.Еловиков С.С. Оже-электронная спектроскопия- - Соросовский образ. журнал, т.7,№2, 2001 – с.82-88.
14.www.centremisis.ru
15.http://shark007.narod.ru/
66
|
СОДЕРЖАНИЕ |
|
1 |
Методы электронной спектроскопии |
4 |
1.1 |
Введение |
4 |
2 |
Физические основы методов электронной |
6 |
|
спектроскопии |
|
2.1 |
Энергетический спектр электронов |
6 |
2.2 |
Глубина выхода электронов |
9 |
2.3 |
Неупругие электрон - электронные взаимодействия |
12 |
3 |
Экспериментальное оборудование |
14 |
3.1 |
Общие характеристики электронных спектрометров |
14 |
3.2 |
Анализаторы задерживающего поля |
16 |
3.3 |
Отклоняющие электростатические анализаторы |
18 |
4 |
Электронная Оже-спектроскопия (ЭОС) |
25 |
4.1 |
Физические основы Оже-спектроскопии |
25 |
4.2 |
Экспериментальное оборудование для ЭОС |
30 |
4.3 |
Применение ЭОС. Количественный анализ |
35 |
5 |
Спектроскопия характеристических потерь энергии |
42 |
|
(СХПЭЭ) |
|
5.1 |
Основные физические процессы энергетических потерь |
42 |
5.2 |
СХПЭЭ глубоких уровней |
43 |
5.3 |
Экспериментальное оборудование для СХПЭЭ глубоких |
45 |
|
уровней |
|
5.4 |
СХПЭЭ высокого разрешения |
49 |
6 |
Методы фотоэлектронной спектроскопии |
52 |
6.1 |
Физические основы. Фотоэлектрический эффект |
52 |
6.2 |
Экспериментальное оборудование ФЭС |
54 |
6.3 |
Рентгеновская фотоэлектронная спектроскопия (РФЭС) |
58 |
|
Физические принципы РФЭС. Энергия связи и влияние |
|
|
конечных состояний |
|
6.4 |
Применение РФЭС. Количественный анализ |
60 |
6.5 |
Ультрафиолетовая фотоэлектронная спектроскопия |
63 |
7 |
Список цитированной литературы |
66 |
67
Учебное издание
Н. И. Филимонова
А. А. Величко
Н. Е. Фадеева
МЕТОДЫ ЭЛЕКТРОННОЙ СПЕКТРОСКОПИИ
Учебное пособие
Принято редакционно-издательским советом № 1 от 15.11.2016, подписано в печать 07.12.2016,
п. л. 4,2, заказ № 198, 68 стр., электронная версия – 859 Кб
Редакционно-издательский отдел СибГУТИ 630102, г. Новосибирск, ул. Кирова, 86, офис 105 тел. (383) 269-83-56
68