В ЛФД обедненный слой, возникающий
при приложении обратного напряжения, также необходимо рассматривать как область
поглощения света; однако для создания ударной ионизации с помощью
фотовозбужденных носителей рядом с p-n-переходом
создают область с высоким значением напряженности электрического поля (более 105
В/см), которую рассматривают как область лавинного умножения. Если
фотовозбужденные носители, возникшие в результате поглощения света в области
дрейфа, инжектируют в область лавинного умножения, то под действием непрерывной
ударной ионизации возникнет лавинное умножение фотовозбужденных носителей.
Обычно ЛФД, благодаря эффекту лавинного умножения, обладают большей
чувствительностью по сравнению с обычными ФД. Если напряжение смещения
обозначить через U, а напряжение пробоя через Uп, то
коэффициент умножения М приближенно может быть представлен эмпирической
формулой:
где n = 2 - 6 (87)
Он принимает различные значения в
зависимости от напряжения смещения. При U » Uп с
повышением напряжения происходит резкое увеличение коэффициента умножения,
который может принимать высокие значения порядка М » 1000. С другой стороны,
коэффициент умножения сильно изменяется при изменении напряжения и температуры,
что является недостатком. При этом температурный коэффициент изменений
напряжения пробоя составляет »
0,2%/oC. В схеме
питания ЛФД необходимо предусмотреть меры, которые бы устраняли влияние этих
изменений.
а б
Рис. 43
На рис. 43 приведены конструкции ЛФД
и p-i-n-ФД, где 1 -
просветляющая пленка; 2 - электрод (омический контакт); 3 - защитное кольцо; 4
- изоляция. Эти конструкции могут изменяться в зависимости от свойств
материалов. Для предотвращения отражения света от поверхности все ФД
покрываются просветляющей пленкой. Защитное кольцо по периметру p-n-перехода
служит для повышения напряжения пробоя, предупреждения локального лавинного
пробоя (микроплазмы) и осуществления равномерного лавинного усиления. В
кремниевом ЛФД из-за расширения обедненного слоя до 20 мкм и более рабочее
напряжение падает. Поэтому область обедненного слоя формируют в виде p-(p)-слоя
низкой концентрации, а лавинную область, требующую большой напряженности ЭП, -
как р-слой с высокой концентрацией носителей. На рис.42, а приведена
конструкция кремниевого ЛФД со структурой n+pppp+, где
уменьшением напряженности электрического поля в области лавинного умножения
оказывается возможным получить широкий обедненный слой с высоким квантовым
выходом. Распределение потенциала в р-i-n - и в
лавинном фотодиоде приведена на рис.4 При этом напряжение пробоя оказывается
низким, а быстродействие - высоким. Например, при Uп = 100 - 150
В быстродействие оказывается равным приблизительно 300 пс.
а б
Рис. 43
Быстродействие ЛФД ограничено временем пробега фотовозбужденных носителей и постоянной времени RC-цепочки. В области дрейфа скорость дрейфа достигает ~ 107 см/c, так что время пробега при ширине обедненного слоя 100 мкм оказывается небольшим, около 1 нс. При ширине несколько десятков микрометров и ниже получается быстродействие порядка нескольких ГГц. Электростатическая емкость определяется суммой паразитной емкости корпуса и емкости перехода, зависящей от диаметра фотоприемной части и обедненного слоя. Она составляем 1-2 пФ. Следовательно, если сопротивление нагрузки положить равным 50 Ом, то постоянная времени RC-цепочки будет составлять 50-100 пс.
Эффективность (квантовая) обедненной области в рабочем диапазоне длин волн достаточно высока ~ 80-100%. Однако часть падающего излучения испытывает френелевское отражение от фоточувствительной поверхности из-за скачка показателей преломления на границе между этой поверхность и средой. Для уменьшения отражения приемную поверхность обедненного слоя покрывают антиотражающим слоем - специально подобранным прозрачным для длины волны излучения l, материалом толщиной кратной l/4 и показателем преломления, равным (n1n2)0,5, где n1 и n2 - показатели преломления i-слоя и воздуха
Особенностью работы ЛФД являются более высокое рабочее напряжение по сравнению с р-i-n-фотодиодами и повышенная температурная чувствительность коэффициента умножения. Это требует использования специальной электрической цепи, вырабатывающей необходимое рабочее напряжение, а также системы термостабилизации.
Фототранзисторы
Биполярным фототранзистором (ФТ)
называют полупроводниковый приемник излучения на основе использования
внутреннего фотоэффекта с двумя p-n-переходами
и с дополнительным усилением фототока на втором p-n-переходе.
Такой ФТ состоит из монокристалла полупроводника n-типа (рис.
44,а) - базы, - в котором с двух сторон созданы сплавные p-n-переходы -
коллекторный и эмиттерный.
а б в
Рис. 44
Значительное усиление фототока ФТ наблюдается при его включении с “оборванной” базой, эквивалентная схема которого дана на рис. 44,б. При этом на эмиттерный переход подается напряжение в прямом, а на коллекторный - в запирающем направлении.
Входным сигналом для ФТ служит падающий поток излучения Ф (hn), который и управляет током в цепи. Когда ФТ не освещен, через него протекает ток, определяемый неосновными носителями, инжектированными из эмиттера, прошедшими базу и достигшими коллектора. Несмотря на то, что переход база-эмиттер включен в прямом направлении, число дырок, инжектированных эмиттером на базу, невелико, а сам ток фактически мал. Объясняется это тем, что дырки накапливаются в базе вследствие отсутствия компенсирующих отрицательных зарядов, которые не могут туда поступать из-за ее обрыва.
При облучении образующиеся дырки диффундируют к эмиттеру и коллектору. Дырки, пришедшие к коллектору, увеличивают его ток, а электроны создают избыточный не скомпенсированный отрицательный объемный заряд, уменьшающий потенциальный барьер перехода эмиттер-база и резко увеличивающий поток дырок из эмиттера в область базы. Эти дырки, пройдя базовую область, попадают на коллектор и еще больше увеличивают ток ФТ, причем ток за счет дырок, вызванных отрицательным объемным зарядом в области базы, превосходит значение тока, определяемого дырками, генерированными в базе первоначально под действием света. Таким образом, усиливается фототок. Если есть базовый вывод, его можно использовать для выбора начального режима и стабилизации рабочей точки ФТ при изменении окружающей температуры.
Благодаря усилению фототока интегральная чувствительность ФТ выше, чем у ФД, и достигает 0,2-0,5 А/мЛм. Вольтовая чувствительность ФТ сравнима с ФД, так как темновой ток ФД больше, а рабочее напряжение питания меньше (3В). Вольт-амперные характеристики аналогичны ФД. ФТ имеют меньшее внутреннее сопротивление, и их характеристики обладают большей крутизной, чем у ФД. Световые характеристики ФТ линейны в широком диапазоне.
По постоянной времени и частотным характеристикам ФТ уступают ФД, так как эмиттерный переход имеет большую емкость (примерно 105 пФ/см2), что увеличивает постоянную времени схемной релаксации (постоянная времени ФТ 10-4 - 10-6,с).
Кроме схемы включения с оборванной базой, рассмотренной выше, для ФТ разработаны специальные схемы включения, учитывающие необходимую стабильность его работы при изменении температуры окружающей среды. Повышения стабильности работы ФТ добиваются применением компенсирующих элементов и отрицательной обратной связи по переменному току.
Полевые ФТ имеют три электрода: исток, сток и затвор (рис. 44, в). Между истоком и стоком образуется фоторезистивный проводящий канал, сопротивление которого изменяется при его облучении и зависит также от потенциала затвора. Затвор отделен от проводящего канала p-n-переходом, ширина которого модулируется потенциалом затвора. Расширение перехода уменьшает сечение канала и увеличивает его сопротивление, сужение - наоборот.
Переход затвор-канал можно
рассматривать как фотодиод, в цепи которого фототок IФД,
пропорциональный потоку излучения, вызывает на резисторе RЗ падение
напряжения DUЗ = RЗIФД, что
приводит к изменению потенциала затвора. Как и в обычном полевом транзисторе,
при изменении потенциала затвора изменяется ток стока:
DIС = SDUЗ = SRЗIФД,
где S-крутизна характеристики передачи dIC/dUЗ при UCИ = const.
Отсюда токовая чувствительность
полевого транзистора
SiПТ = DIС/Ф = SRЗIФД/Ф = SRЗSiФД, (88)
где SiФД - токовая чувствительность фотодиода.
Из выражения (88) следует, что токовая чувствительность полевого фототранзистора по сравнению с токовой чувствительностью фотодиода увеличивается в SRЗ раз.
Энергетические характеристики
полевых фототранзисторов линейны лишь в определенных пределах изменения потока
излучения. При больших уровнях потока излучения потенциал затвора становится
столь малым, что его изменения практически перестают влиять на ток стока,
который близок к максимальному значению. Инерционность полевого фототранзистора
определяется инерционностью цепи затвора и временем пролета носителей заряда
через канал. Постоянная времени полевого фототранзистора составляет 10-7с
для малых потоков излучения.
8. Технические характеристики
фотоприемников
Факторы, влияющие на технические характеристики фотоприемников, сложны и сильно взаимосвязаны между собой. На первый взгляд может показаться, что достаточно выбрать только три параметра - чувствительность, быстродействие, цену. На практике эти факторы часто оказываются зависящими от других факторов, включая рабочую длину волны, выбор волокна и передатчика, темновой ток, шумовые характеристики, тип кодировки передаваемого сигнала и др.
Ниже рассмотрены главные из них: токовая чувствительность; квантовая эффективность; темновой ток; время нарастания и спада; эквивалентная мощность шума; соотношение с/ш и чувствительность аналоговых систем; частота появления ошибок и чувствительность цифровых систем; насыщение ПРОМ; максимально допустимое обратное напряжение; рабочий диапазон температур; наработка на отказ.
Таковая чувствительность (монохроматическая) Sil (А/Вт) определяется как Sil = Iil /Р(l), где Iil - фототок, а Р(l) - полная оптическая мощность излучения на длине волны l, падающего на фоточувствительную площадку. Токовая чувствительность характеризует фотоприемник при низких частотах модуляции.
Квантовая эффективность h (безразмерная величина) определяется как h = Nq/Nil, где Nil - количество фотонов, падающих за единицу времени на приемник, а Nq - количество рожденных в результате этого свободных электронов (или электронно-дырочных пар). Квантовая эффективность для р-i-n-фотодиодов не может быть больше 1 (100%). Кривые квантовой эффективности в зависимости от длины волны для разных материалов приведены на рис. 40.
Между токовой чувствительностью и квантовой эффективностью существует простая связь Sil = qhl/hc, где q - заряд электрона (1,6010×10-19 К), l - длина волны, h - постоянная Планка (6,63×10-34 Дж×сек), с - скорость света (3,00×108 м×сек). С подстановкой значений констант получаем Sil = hl/1,24. На основании зависимостей рис. 40 легко оценить значения токовой чувствительности для разных материалов и разных длин волн. Типичное значение токовой чувствительности для р-i-n-фотодиодов в их рабочих диапазонах составляет 0,5 - 0,8 А/Вт, а для лавинных фотодиодов 20 - 60 А/Вт (табл. 4.3). Характеристики h и Sil используют при создании фотоприемников и ПРОМ, когда необходимо согласовывать последующий каскад электронных усилителей.
Темновой ток Iт (А)
протекает при обратном смещении через нагрузку в отсутствии падающего на
фотодиод излучения. Его величина зависит от материала полупроводника,
температуры окружающей среды, конструкции фотоприемника. Максимальные значения
этот ток утечки имеет в фотодиодах, изготовленных из германия, и составляет от
долей до единиц миллиампера (табл. 1. Этот ток добавляется к току полезного
сигнала, когда на фотодиод поступает свет.
Таблица 1
|
Фотоприемник |
Токовая чувствительность, А/Вт |
Темновой ток, нА |
Время нарастания, нс |
|
р-i-n фотодиод (InGaAs) |
0,8 |
0,1 - 3 |
0,01 - 5 |
|
р-i-n фотодиод (Si) |
0,5 |
10 |
0,1 - 5 |
|
Лавинный фотодиод (InGaAs) |
20 - 60 |
30 |
0,3 |
|
Лавинный фотодиод (Ge) |
20 - 60 |
400 |
0,3 - 1 |
|
Фототранзистор (Si) |
18 |
25 |
2500 |