стоком
и
истоком.
Внутренние контакты
с
помощью
обычных,
омических контактов с
металлом
выведены на
поверхность,
что
позволяет
соединять
их
с
внешними
цепями.
Благодаря
высокой
степени
легирования,
контакты обладают ничтожным
сопротивлением.
На рисунке изображён фрагмент подложки ИС с n-канальным МДП
транзистором
(интегральный
МДП-транзистор).
Для
изготовления
такого
транзистора
понадобится
подложка
из
кремния
р-типа
(р-Si).
После
создания
диэлектрического
защитного
слоя
из
двуокиси кремния (SiO
2 ) необходимо будет осуществить первую
фотолитографию
для
вскрытия
окон над
будущими
истоком
и
стоком.
Диффузия донорной примеси создаст под окнами островки n
+ - типа. Затем
будет
выполнено
напыление
сплошного
металлического
слоя.
На
него
будет
нанесён фоторезист для второй фотолитографии. Удаление незасвеченного
фоторезиста обнажит
«лишний»
металл,
где
его
можно
будет
удалить
травлением
кислотой.
Особым
растворителем
удаляется
засвеченный
фоторезист,
после
чего
изготовление
транзистора
и
соединительных
проводников
будет
завершено.
Технология
изготовления
интегрального
МДП-транзистора
представлена здесь несколько упрощённо. Тем не менее, простота
изготовления
очевидна.
Уже
только то,
что
для
изготовления
интегрального
БТ
понадобится
до
5
–
6
фотолитографий, делает применение
БТ
в
ИС
невыгодным.
50. Особенности схемотехники аналоговых интегральных схем.
Основной особенностью схемотехники аналоговых ИС (АИС) является
позволяет
снизить
влияние
отклонения
параметров
элементов
от
номинальных
значений.
Специфика АИС предопределила применение только нескольких типов
хорошо
зарекомендовавших
себя узлов:
-
Генератор стабильного тока;
-
Токовое зеркало;
-
Цепь сдвига уровня;
-
Дифференциальный усилительный каскад.
Биполярный
транзистор
(в
дальнейшем
БТ)
является
электронным
элементом
с
двумя
р-n
переходами(рис.34).
Рис.34
Здесь
изображён
БТ
со
структурой
[2]
хотя
возможна,
но
менее
распространена
структура.
В
работе
таких
БТ
принципиальных
отличий
нет.
Области
БТ
получили
следующие
названия: n
+ – эмиттер (область, “испускающая” носители); р–база и n (нарис.34 – область справа) –
коллектор (т.е. область, “собирающая” носители). Каждая область снабжена омическими контактами
металл
полупроводник,
служащими
для
подключения
к
внешним
цепям.
Названия
внешних
контактов
такие же, как у областей – эмиттер, база, коллектор. P-n переход между эмиттером и базой получил
название эмиттерный
переход (ЭП),
между
базой
и
коллектором
–коллекторный
переход (КП).
21. Схема с общей базой, схема с общим эмиттером. Соотношения токов, параметры и статическиехарактеристики.Схема с общей базой:
Здесь база – общий электрод для входной и
выходной
цепи,
ток
которого
является
алгебраической
суммой
контурных
входного и
выходного токов.
Соотношения токов:
Параметры:В кремниевых транзисторах, наиболее распространённых сегодня, Iкб0 пренебрежимо мал. Поэтому
α=Iк/Iэ.
Коэффициент передачи эмиттерного