Материал: Функциональные материалы в аэрокосмической технике. Ожерельев В.В., Костюченко А.В

Внимание! Если размещение файла нарушает Ваши авторские права, то обязательно сообщите нам

выращиванию гетероструктур в ННК с различным рассогласованием.

Рис. 2.20. Зависимость критической толщины от радиуса ННК для различных значений ε0 − расчет для 60-градусных дислокаций и простой кубической решетки. Вертикальные асимптотики соответствуют критическому радиусу, а горизонтальные − соответствующим критическим толщинам для двумерных слоев. Точки − характеристики когерентных гетероструктур (1, 3, 4) и гетероструктур с дислокациями (2) в кристаллах, выращенных

при ε0 = 0.9 % (1), 3.2 % (3), 3.7 % (4) и 7.0 % (2)

В целом изменение прочностных свойств ННК, достигающее теоретических пределов и обусловленное затруднениями в зарождении и развитии дислокаций или же больших остаточных напряжений в специфических одномерных нанокристаллических материалах, требует более глубокого изучения. Важной проблемой является использование релаксационных, демпфирующих свойств ННК и их прочности при циклических нагрузках. Исследования должны включать изучение амплитудной за-

81

висимости внутреннего трения, изгибную жесткость ННК, зависимость микротвердости, модуля упругости и коэффициента Пуассона от поперечных размеров кристаллов и от условий их синтеза.

82

3. ТЕРМОЭЛЕКТРИЧЕСКИЕ МАТЕРИАЛЫ

Термоэлектрическое преобразование энергии основано на использовании термоэлектрических эффектов, важнейшими из которых являются эффекты Зеебека, Пельтье и Томсона.

3.1. Эффект Зеебека

Если в электрической цепи, состоящей из последовательно соединенных разных проводящих материалов, места контактов поддерживать при различной температуре, в ней возникает термоэлектродвижущая сила (термо-ЭДС). Это явление в про-

водящих материалах известно как эффект Зеебека. В 1821 г. Т. Зеебек, нагревая один из концов замкнутого контура, состоящего из пластины висмута, соединенной с медной спиралью, обнаружил отклонение магнитной стрелки, расположенной рядом с контуром. Примечательно, что Зеебек связывал отклонение магнитной стрелки с намагничиванием материалов цепи в процессе нагрева, а не с возникновением в цепи электрического тока.

Рис. 3.1. Эксперимент Т. Зеебека [24]

83

Причины возникновения термо-ЭДС.

Выделяют три составляющие термо-ЭДС в материалах:

1)контактную составляющую, обусловленную температурной зависимостью уровня Ферми;

2)объемную составляющую, обусловленную диффузией носителей заряда от горячего конца к холодному;

3)фононную составляющую, обусловленную эффектом «увлечения» носителей заряда фононами.

Контактная часть термо-ЭДС. Рассмотрим возникно-

вение контактной термо-ЭДС на примере металлов. Как известно, металлы можно представить в виде положительных ионов, связанных между собой квазисвободными электронами – электронным газом (или электронами проводимости). Тепловое поле проявляется в колебаниях ионов около положения равновесия и в броуновском движении электронного газа. Необходимо помнить, что тепловое и электрическое поля способны воздействовать только на квазисвободные носители (электронный газ).

Введем понятие работы выхода. Работа выхода (W) – это энергия, которая необходима электрону проводимости для преодоления потенциального барьера сил «двойного слоя» и «сил зеркального отображения» для покидания объема твердого тела и полного отдаления от него. В металлах, электроны, не имеющие достаточную энергию для выхода из него, образуют вблизи поверхности электронное облако с линейным размером х0 (рис. 3.2), сопоставимым по размеру с межатомным расстоянием. Электроны вблизи приповерхностного ионного слоя под воздействием отрицательно заряженного электронного облака вытесняются вглубь металла, а приповерхностный ионный слой приобретает положительный заряд. Поэтому вблизи поверхности металла образуется двойной электрический слой из ионов и электронного облака.

84

Рис. 3.2. Приповерхностный слой металла и силы, действующие на электроны [20]

В пределах этого слоя на электрон действует постоянная сила F1 . На расстоянии х > x0 действует сила F 2 , которую можно найти как силу взаимодействия между зеркально наведенным положительным зарядом +е и электроном -е , расстояние между которыми равно 2х (рис. 3.2).

Эта сила равна

F

=

 

 

e2

,

 

 

 

(3.1)

16πε0 x2

 

 

 

2

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

а сила F1 будет равна

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

F

=

 

e2

 

 

 

 

 

 

16πε0 x02 .

 

 

 

(3.2)

1

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Полная работа выхода Wa равна

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

∞

 

 

e2

 

 

 

Wa = F1 x0 + ∫F2dx =

 

.

(3.3)

 

2

 

 

 

 

x0

 

 

8πε0 x0

 

 

 

 

85

 

 

 

 

 

 

Источник: https://studfile.net/preview/16569673/