словленные выходом в междоузлия ионов С1~, встречаются гораздо реже, чем дефекты, связанные с аналогичным явлением* для ионов Ag + . Для кристаллов AgCl и AgBr можно ограничиться рассмотрением таких дефектов, как вакансии на местах ионов Ag + и междоузельные ионы Ag + .
Если в |
кристалле |
имеется эквивалентное |
количество |
катионных |
и анионных |
вакансий, |
а междоузельные ионы |
отсутствуют, говорят |
|
о дефектах |
по Шоттки |
(рис. 52, б). Катионные и анионные |
вакансии, |
|
по-видимому, зарождаются на поверхности граней кристалла или на поверхности внутренних микротрещин и затем диффундируют в тол щу кристалла. Образование дефектов по Шоттки имеет место, напри мер, в кристалле NaCl.
Наличием дефектов в структуре решетки обусловлена ионная про водимость кристаллов. Если дефекты являются дефектами по Френ келю, перенос электричества осуществляется при движении вакансий и междоузельных ионов в объеме кристалла, причем в этом процессе обычно участвует практически ион лишь одного знака (как мы заме тили ранее, обычно только катионы или только анионы в значительной степени переходят в междоузлия). Так, в случае кристалла AgBr пе реносчик электричества — катион Ag+ ; измеряемое на опыте число переноса аниона Вг~ равно нулю. При наличии дефектов по Шоттки (кристалл NaCl) перенос заряда осуществляется как катионами, так и анионами в процессе движения катионных и анионных вакансий. Суждения о характере дефектов в кристалле в большой степени осно вываются на экспериментальных данных о числах переноса для катио нов и анионов (также используются данные о тепловом расширении кристаллов, рентгенографические данные и др.).
Равновесные концентрации дефектов по Френкелю или Шоттки (возможно также наличие в кристалле дефектов обоих типов) опреде ляются величинами свободных энергий образования дефектов. Полу чим соответствующие зависимости в предположении, что дефекты мож но считать невзаимодействующими. Поскольку в системе действуют медленно убывающие с расстоянием кулоновские силы, данное пред положение допустимо лишь при очень малой равновесной концентра ции дефектов (строго говоря, при с - > 0 ) . И все же для реальных ион ных кристаллов при температурах заметно ниже температур плавле ния приближение дает удовлетворительные результаты.
Вначале рассмотрим соотношения, определяющие концентрацию дефектов по Френкелю. Будем полагать, что в кристалле имеются только катионные вакансии. Введем следующие обозначения: N — число правильных мест для катионов; N' — число междоузельных мест, доступных для катионов; — число дефектов по Френкелю,
* Отсутствие междоузельных ионов С1~ в кристалле AgCl можно объяснить
о
тем, что эффективный радиус иона С1~ (1,81 А) велик и составляет значительную
о
часть расстояния между соседними катионом и анионом (2,77 А). Выходу иона С1~ в междоузлие препятствуют силы отталкивания, возникающие при таком процессе. Энергия выхода иона Ag + в междоузлие значительно меньше. Анало
гичное объяснение годится и в случае кристалла AgBr. 370